Avec le développement de la science et de la technologie, la méthode de fabrication de la plaque guide de lumière a été progressivement améliorée, ce qui est différent du type d’impression précoce, et nous l’appelons « type sans impression ».
photolithographie
La technologie de lithographie consiste à recouvrir une couche de résine photosensible résistante à la corrosion sur une plaquette de silicium plat, puis à laisser passer une forte lumière à travers la résine photosensible et à exposer sélectivement sur la résine photosensible en fonction des informations de motif de la couche spécifique générée; la plaquette de silicium sera Un film avec une structure à micromotifs est laissé derrière. La rugosité de surface de la plaque guide lumineuse préparée par la méthode de photolithographie est médiocre et la perte d’énergie lumineuse est relativement importante.
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